| 主权项 |
1.一种基板处理方法,系支撑着基板而朝水平方向 搬送,且将处理液供应给基板主面而对基板施行处 理者;其特征在于: 将含冰微粒的处理液供应给基板主面,并使搅混构 件接触或靠近基板主面,在基板主面上一边移动一 边搅混含冰微粒的处理液。 2.如申请专利范围第1项之基板处理方法,其中,将 基板依倾斜姿势支撑着,朝与此倾斜方向正交的方 向且朝水平方向进行搬送,一边使对基板主面所供 应之含冰微粒的处理液沿基板倾斜流下,一边利用 上述搅混构件,在基板主面上搅混含冰微粒的处理 液。 3.如申请专利范围第1项之基板处理方法,其中,上 述搅混构件系平面刷,使该平面刷沿基板主面朝与 基板搬送方向交叉的方向,横跨基板总宽度而进行 往返移动。 4.一种基板处理方法,系支撑着基板而朝水平方向 搬送,且将处理液供应给基板主面而对基板施行处 理者;其特征在于: 将含有含过氧化氢之冰微粒的处理液供应给基板 主面,并使搅混构件接触或靠近基板主面,在基板 主面上一边移动一边搅混含有含过氧化氢之冰微 粒的处理液。 5.一种基板处理方法,系支撑着基板而朝水平方向 搬送,且将处理液供应给基板主面而对基板施行处 理者;其特征在于: 将经溶解二氧化碳而含有冰微粒的处理液供应给 基板主面,使搅混构件接触或靠近基板主面,于基 板主面上一边移动一边搅拌经溶解二氧化碳而含 有冰微粒的处理液。 6.如申请专利范围第1至5项中任一项之基板处理方 法,其中,基板的处理系洗净处理。 7.一种基板处理装置,系具备以下手段者: 基板搬送手段,其系支撑着基板而朝水平方向搬送 ;以及 处理液供应手段,其系对利用该基板搬送手段所搬 送的基板主面,供应处理液;其特征为, 上述处理液供应手段系将含冰微粒的处理液供应 给基板主面者,进一步具备有接触或靠近基板主面 ,在基板主面上一边移动一边将含有冰微粒的处理 液施行搅混的搅混构件。 8.如申请专利范围第7项之基板处理装置,其中,上 述基板搬送手段系依倾斜姿势支撑着基板,将基板 朝与此倾斜方向正交的方向且水平方向进行搬送, 利用上述处理液供应手段对基板主面所供应的含 冰微粒处理液,沿基板的倾斜流下。 9.如申请专利范围第7项之基板处理装置,其中,上 述搅混构件系平面刷,将该平面刷配设于在基板搬 送方向上较上述处理液供应手段所施行的处理液 供应位置更靠前方侧处,具备有移动手段,其系使 上述平面刷沿基板主面朝与基板搬送方向交叉的 方向,横跨基板总宽度而进行往返移动。 10.如申请专利范围第7项之基板处理装置,其中,上 述处理液供应手段系具备有: 喷嘴,其系具有使含冰微粒处理液流出的狭缝状流 出口;以及 制冰/送液手段,其系调制含冰微粒处理液,送往上 述喷嘴。 11.如申请专利范围第10项之基板处理装置,其中,上 述制冰/送液手段系具备有: 容器,其系具有圆筒状之内周壁面,设有供应口与 排出口; 冷却手段,其系将该容器之壁面冷却; 刮取手段,其系刮取在上述容器的内周壁面上所析 出成长的冰结晶,将其扩散于纯水中; 纯水供应手段,其系将纯水经由供应口,供应给上 述容器内;以及 配管,其系将从上述容器内经由排出口所排放出的 含冰微粒纯水,输送给上述喷嘴。 12.一种基板处理装置,系具备以下手段者: 基板搬送手段,其系支撑着基板而朝水平方向搬送 ;以及 处理液供应手段,其系对利用该基板搬送手段所搬 送的基板主面,供应处理液;其特征为, 上述处理液供应手段为将含有含过氧化氢之冰微 粒的处理液供应给基板主面者,并进一步具备有接 触或靠近基板主面,且在基板主面上一边移动一边 搅混含有含过氧化氢之冰微粒之处理液的搅混构 件。 13.如申请专利范围第12项之基板处理装置,其中,上 述处理液供应手段系具备有处理液调制手段,其系 将既定浓度之过氧化氢水进行冷却,而调制含有含 过氧化氢冰微粒的处理液。 14.如申请专利范围第13项之基板处理装置,其中,上 述处理液调制手段系具备有过氧化氢水调配手段, 其系将过氧化氢与纯水依既定比例进行混合,而调 配出上述既定浓度的过氧化氢水。 15.一种基板处理装置,系具备有以下手段者: 基板搬送手段,其系支撑着基板而朝水平方向搬送 ;以及 处理液供应手段,其系对利用该基板搬送手段所搬 送的基板主面,供应处理液;其特征为, 上述处理液供应手段系将经溶解二氧化碳而含有 冰微粒的处理液供应给基板主面者,进一步具备有 搅混构件,其系接触或靠近基板主面,在基板主面 上一边移动一边搅混经溶解二氧化碳而含有冰微 粒的处理液。 16.如申请专利范围第15项之基板处理装置,其中,上 述处理液供应手段系具备有处理液调制手段,其系 将在纯水中经溶解二氧化碳的二氧化碳水溶液进 行冷却,调制经溶解二氧化碳而含有冰微粒的处理 液。 17.如申请专利范围第16项之基板处理装置,其中,上 述处理液调制手段系具备有二氧化碳水溶液调制 手段,其系在纯水中溶解二氧化碳而调制二氧化碳 水溶液。 18.如申请专利范围第7至17项中任一项之基板处理 装置,其中,基板的处理系洗净处理。 图式简单说明: 图1为本发明实施形态之一例,基板洗净装置之概 略构造的重要部分立体图。 图2为图1所示基板洗净装置的重要部份前视图。 图3为图1所示基板洗净装置的重要部份侧视图。 图4为图1所示基板洗净装置构成要件之一之制冰/ 送液部构造的概略剖视图。 图5为供制造含冰微粒(其系含过氧化氢)处理液用 的制冰/送液部之构造例的概略剖视图。 图6为供制造含冰微粒(其系有溶解着二氧化碳)处 理液用的制冰/送液部之构造例的概略剖视图。 图7为本发明另一实施形态,基板旋转式洗净装置 之重要部分构造的概略前视图。 |
