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发明名称 PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE
摘要
申请公布号 EP1557872(A4) 申请公布日期 2008.04.09
申请号 EP20030769934 申请日期 2003.10.29
申请人 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. 发明人 MASHIMA, HIROSHI;YAMADA, AKIRA;KAWAMURA, K.;TAGASHIRA, K.;TAKEUCHI, Y.
分类号 C23C16/509;H01J37/32;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 C23C16/509
代理机构 代理人
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