发明名称 使用固定床反应器之气相触媒氧化方法
摘要 本发明提供一种气相触媒氧化方法,特别是一种(甲基)丙烯酸制法,其可得气相触媒氧化之长期安定连续操作,维持高产率且抑制压力损失增加。此方法使用固定床反应器,其中将用于改良有机物质及/或碳化物之处理剂,较佳为具有至少 0.05质量%之吸附力(以巴豆醛作为有机物质之指标而测量)的处理剂,配置于气相氧化触媒相对气体流动方向之上游侧。其希望将至少一部份处理剂以一年至少一次之频率交换。
申请公布号 TW200815334 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096126312 申请日期 2007.07.19
申请人 触媒股份有限公司 发明人 谷本道雄;正木信之
分类号 C07C51/21(2006.01);C07C57/04(2006.01) 主分类号 C07C51/21(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本