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发明名称 Automatic fluorine concentration control system for excimer laser
摘要
申请公布号 EP1075060(B1) 申请公布日期 2008.03.26
申请号 EP20000116028 申请日期 2000.07.26
申请人 CYMER, INC. 发明人 GONG, MENGXIONG;CARLESI, JASON R.;BINDER, MICHAEL C.;DAS, PALASH P.
分类号 H01S3/10;H01S3/225;G03F7/20;H01S3/03;H01S3/036;H01S3/08;H01S3/134 主分类号 H01S3/10
代理机构 代理人
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