发明名称 一种砷化镓PIN二极管及其制作方法
摘要 本发明公开了一种GaAs PIN二极管,该GaAs PIN二极管包括:用于支撑整个GaAs PIN二极管的半绝缘GaAs衬底;在半绝缘GaAs衬底上外延生长的高掺杂N<SUP>+</SUP>层,在高掺杂N<SUP>+</SUP>层上依次外延生长的接近本征的高阻I层和P<SUP>+</SUP>层;通过采用湿法刻蚀,所述高掺杂N<SUP>+</SUP>层、高阻I层和P<SUP>+</SUP>层的面积依次减小形成台面结构;在P<SUP>+</SUP>层上蒸发金属形成的圆形结构上电极;在N<SUP>+</SUP>层上蒸发金属形成的半环形结构下电极。本发明同时公开了一种GaAsPIN二极管的制作方法。利用本发明,不增加工艺难度的前提下有效降低了PIN二极管的寄生电容,同时,连接上电极的微带线大大缩短,由其引入的寄生电感可以大幅减小,甚至可以忽略,无需使用空气桥工艺,制作简便,能够获得更好的高频特性,且易于实现单片集成。
申请公布号 CN101140955A 申请公布日期 2008.03.12
申请号 CN200610112885.X 申请日期 2006.09.06
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 杨浩;张海英;吴茹菲
分类号 H01L29/868(2006.01);H01L21/329(2006.01) 主分类号 H01L29/868(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 周国城
主权项 1.一种砷化镓GaAs PIN二极管,其特征在于,该GaAs PIN二极管包括:用于支撑整个GaAs PIN二极管的半绝缘GaAs衬底;在半绝缘GaAs衬底上外延生长的高掺杂N+层,在高掺杂N+层上依次外延生长的接近本征的高阻I层和P+层;通过采用湿法刻蚀,所述高掺杂P+层、高阻I层和N+层的高度依次降低形成台面结构;在P+层上蒸发金属形成的圆形结构上电极;在N+层上蒸发金属形成的半环形结构下电极。
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