| 发明名称 | 一种电感耦合等离子体装置 | ||
| 摘要 | 本发明所述电感耦合等离子体装置，包括电感耦合等离子腔体、电感耦合线圈与线圈旋转装置。电感耦合线圈位于电感耦合等离子腔体上方，电感耦合线圈安装于线圈旋转装置上，线圈旋转装置固定在电感耦合等离子腔体上，线圈旋转装置旋转带动电感耦合线圈转动，其中线圈旋转装置由电机、固定盘与支架组成。通过电机旋转带动固定盘和固定盘上的电感耦合线圈转动，使反应腔室中产生的等离子体分布均匀，减小晶片表面化学反应速度的差异，提高晶片加工质量和加工稳定性，本发明特别适用于尺寸较大的晶片的加工过程。 | ||
| 申请公布号 | CN100372075C | 申请公布日期 | 2008.02.27 |
| 申请号 | CN200510064592.4 | 申请日期 | 2005.04.15 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 申浩南 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01);C23F4/00(2006.01);H05H1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑立明 |
| 主权项 | 1.一种电感耦合等离子体装置，其特征在于，包括电感耦合等离子腔体、电感耦合线圈与线圈旋转装置；电感耦合线圈位于电感耦合等离子腔体外部的上方，电感耦合线圈安装于线圈旋转装置上，线圈旋转装置固定在电感耦合等离子腔体上，线圈旋转装置旋转带动电感耦合线圈转动。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||