| 主权项 |
1.一种感应读头之清洁结构,清洁结构设于感应读 头上相应量测尺位移,其中: 该清洁结构包含一以预设角度成型的导除部,该导 除部一侧成型一组部相应该感应读头,该导除部另 一侧相应该组部成型一抵部相应该量测尺。 2.如申请专利范围第1项所述之感应读头之清洁结 构,其中该清洁结构透过该组部装设于该感应读头 相应该量测尺侧上二端。 3.如申请专利范围第1项所述之感应读头之清洁结 构,其中该清洁结构透过该组部装设于该感应读头 相应该量测尺侧上中央。 4.一种感应读头之清洁结构,清洁结构设于感应读 头上相应量测尺位移,其中: 该清洁结构包含一以预设曲度成型的导除部,该导 除部一侧成型一组部相应该感应读头,该导除部另 一侧相应该组部成型一抵部相应该量测尺。 5.如申请专利范围第4项所述之感应读头之清洁结 构,其中该清洁结构透过该组部装设于该感应读头 相应该量测尺侧上二端。 6.如申请专利范围第5项所述之感应读头之清洁结 构,其中该清洁结构透过该组部装设于该感应读头 相应该量测尺侧上中央。 图式简单说明: 第1图 系习用之立体示意图。 第2图 系习用之清洁示意图。 第3图 系本创作之立体示意图。 第4图 系本创作之清洁示意图。 第5图 系本创作之平面示意图一。 第6图 系本创作之平面示意图二。 第7图 系本创作之平面示意图三。 第8图 系本创作之平面示意图四。 第9图 系本创作之平面示意图五。 第10图 系本创作之平面示意图六。 第11图 系本创作之平面示意图七。 第12图 系本创作之平面示意图八。 第13图 系本创作之平面示意图九。 第14图 系本创作之平面示意图十。 |
