| 发明名称 | 研磨装置及其定位方法 | ||
| 摘要 | 一种研磨装置及其定位方法。研磨装置包括下盘、上盘、摆动检测模块及摆动动力源。上盘对应设置于下盘的上方。摆动检测模块对应上盘设置，以侦测上盘的位置。摆动动力源与上盘电性连接。摆动动力源用以根据上盘的位置控制上盘的摆动。本发明的研磨装置及其定位方法，提供了上盘的定位机制，以使得吸附于上盘的一基板准确地定位，从而使得本发明的研磨装置可与自动化设备结合，降低制造成本并且提升产业竞争力。 | ||
| 申请公布号 | CN101125410A | 申请公布日期 | 2008.02.20 |
| 申请号 | CN200710149274.7 | 申请日期 | 2007.09.10 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 储中文;刘昱辰;卢聪林;刘荣其;吴哲耀 |
| 分类号 | B24B7/00(2006.01);B24B51/00(2006.01) | 主分类号 | B24B7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵丽丽 |
| 主权项 | 1.一种研磨装置，该研磨装置包括：下盘；上盘，该上盘对应设置于该下盘的上方；摆动检测模块，其对应该上盘设置，以侦测该上盘的位置；以及摆动动力源，其与该上盘电性连接，用以根据该上盘的位置控制该上盘的摆动。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||