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发明名称
微影装置、控制系统以及器件制造方法
摘要
本发明系揭示一种浸入式微影装置,其具有一测量系统或一预测系统以分别测量及/或预测一与该液体之一温度波动相关的效应,且具有一控制系统,该控制系统系基于分别藉由该测量系统及/或预测系统所获得之该测量及/或预测来控制与该沉浸液体之温度相关之该或另一效应。本发明亦揭示相关的控制系统及器件制造方法。
申请公布号
TW200741367
申请公布日期
2007.11.01
申请号
TW096107436
申请日期
2007.03.05
申请人
ASML公司
发明人
马可斯 艾瑞纳斯 凡 迪 克赫夫;ADRIANUS;乔哈奈 韩瑞卡 怀慕斯 贾可布;WILHELMUS;塔莫 由特狄可;尼可拉斯 亚班 拉里曼特
分类号
G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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