发明名称 微影装置、控制系统以及器件制造方法
摘要 本发明系揭示一种浸入式微影装置,其具有一测量系统或一预测系统以分别测量及/或预测一与该液体之一温度波动相关的效应,且具有一控制系统,该控制系统系基于分别藉由该测量系统及/或预测系统所获得之该测量及/或预测来控制与该沉浸液体之温度相关之该或另一效应。本发明亦揭示相关的控制系统及器件制造方法。
申请公布号 TW200741367 申请公布日期 2007.11.01
申请号 TW096107436 申请日期 2007.03.05
申请人 ASML公司 发明人 马可斯 艾瑞纳斯 凡 迪 克赫夫;ADRIANUS;乔哈奈 韩瑞卡 怀慕斯 贾可布;WILHELMUS;塔莫 由特狄可;尼可拉斯 亚班 拉里曼特
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰