| 发明名称 | 使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种在衬底上形成图像的方法，其包括以下步骤：(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物；(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上；(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光；和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像；其中，将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光；使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影；其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物，具有的固含量最高至约8％固体分，并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n]，其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长，且n为B.A.R.C.组合物的折射率。 | ||
| 申请公布号 | CN101034259A | 申请公布日期 | 2007.09.12 |
| 申请号 | CN200710101248.7 | 申请日期 | 2003.01.03 |
| 申请人 | AZ电子材料日本株式会社 | 发明人 | M·O·尼瑟尔;J·E·奥伯兰德;M·A·图卡伊;R·萨卡穆里;李丁术季 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/09(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘明海 |
| 主权项 | 1.包含聚合物的辐射敏感性可光成像抗反射组合物，其能够在含水碱性显影剂中显影，其中该抗反射涂层组合物能够在光刻胶层下方形成具有最大涂层厚度为λ/2n且最小涂层厚度大于0的抗反射层，其中λ是曝光波长，并且n是抗反射涂层组合物的折射率。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||