| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括: 一用于提供一辐射投影束之照明系统,其中该照明 系统界定一焦平面,在使用中该投影束穿过该焦平 面; 一用于在一位置处支撑一图案化构件之支撑结构, 该图案化构件用于根据一所要图案来图案化该投 影束; 一用于遮掩该图案化构件之至少一部分以使其免 受该投影束照射的遮蔽元件,该遮蔽元件包括一配 置成相对于该位置以一第一方向遮掩该部分之第 一遮蔽构件,及一配置成相对于该位置以一不同之 第二方向遮掩该位置之部分的第二遮蔽构件; 一用于固持一基板之基板台; 一用于将经图案化之射束成像至该基板之一目标 部分上的投影系统, 其特征在于,该第一及该第二遮蔽构件系以一相对 于彼此未机械耦接之配置安置于该焦平面附近。 2.如请求项1之微影投影装置,其中该第一及该第二 遮蔽构件均系支撑于各个单独的第一及第二支撑 部件上。 3.如请求项1或2之微影投影装置,其中该第一遮蔽 构件具有冷却构件。 4.如请求项3之微影投影装置,其中该冷却构件包括 一并入该第一支撑部件中之冷却结构。 5.如请求项4之微影投影装置,其中该冷却结构包含 :引导一冷却流体穿过的一入口,让该冷却流体穿 过的一冷却管道及让该冷却流体穿过以离开该冷 却结构的一出口。 6.如请求项3之微影投影装置,其中该冷却构件提供 水冷却。 7.如请求项3之微影投影装置,其中该第二遮蔽构件 具有冷却构件,且其中该第一遮蔽构件与该第二遮 蔽构件系相对于彼此冷却至一不同程度。 8.如请求项2之微影投影装置,其中该第一遮蔽构件 包括一安装于该叶片支撑物上的叶片,其中有一层 具有高导热性之材料安置于该叶片与该叶片支撑 物间。 9.如请求项8之微影投影装置,其中该材料为银。 10.如请求项2之微影投影装置,其中该第一遮蔽构 件包括一叶片,该叶片于该投影束之方向上具有少 于0.5 mm之厚度。 11.如请求项2之微影投影装置,其中该第一与该第 二遮蔽构件分别包括第一与第二对可移动叶片。 12.如请求项2之微影投影装置,其中该第一遮蔽构 件包括一板状物,其由选自包含以下各物之群中之 材料中的一种制得:化学气相沈积金刚石、铝、钨 铜合金与碳化矽。 13.如请求项2之微影投影装置,其中该第一与该第 二遮蔽构件系由个别之非接触线性马达所驱动。 14.如请求项13之微影投影装置,其中该第二遮蔽构 件具有一形成该个别之非接触线性马达之部分的 磁铁。 15.如请求项2之微影投影装置,其中该第一与该第 二构件包括一对配置成分别于X及Y方向上同时移 动彼此远离的叶片。 16.如请求项2之微影投影装置,其中该第二遮蔽构 件系藉由一气体轴承支撑于该第二支撑部件上。 17.如请求项16之微影投影装置,其中该气体轴承冷 却该第二遮蔽构件。 18.如请求项17之微影投影装置,其中该第二支撑部 件包括一气体轴承表面,气体经过该气体轴承表面 以支撑该第二遮蔽构件,该支撑部件进一步包括一 用以冷却该气体轴承表面的冷却结构。 19.如请求项18之微影投影装置,其中该冷却结构包 括:引导一冷却剂穿过的一入口,让该冷却剂穿过 的一管道及让该冷却剂穿过以离开该结构的一出 口。 20.如请求项16之微影投影装置,其中热系自该第二 遮蔽构件经由该气体轴承在该第二遮蔽构件与该 第二支撑部件之间提供的一间隙所传导。 21.如请求项16之微影投影装置,其中当该第一遮蔽 构件安置于一闭合位置时,其充当一挡板以保护该 第二遮蔽构件使其免受该投影束之影响。 22.如请求项16之微影投影装置,其中该第一遮蔽构 件与该第二遮蔽构件为模组化单元。 23.如请求项16之微影投影装置,其中该等遮蔽构件 中之至少一个具有一静电荷元件。 24.如请求项23之微影投影装置,其中该静电荷元件 包括一安装于至少该等遮蔽构件中之至少一个之 一叶片上的棒,从而引导一静电荷使其远离该装置 之特定组件。 25.如请求项2之微影投影装置,其中系由一控制构 件来控制该等遮蔽构件中任一个之一对叶片,以避 免该对叶片中之个别叶片间的碰撞。 26.如请求项2之微影投影装置,其中该等支撑部件 具有调整构件,以用于在该投影束之方向上调整该 第一与该第二遮蔽构件之位置。 27.如请求项26之微影投影装置,其中该调整构件包 括一作用于一弹性部件上之螺丝,该螺丝与该弹性 部件均安装于一框架上。 28.如请求项2之微影投影装置,其中该第二方向界 定在Y方向上的一扫描方向,该第一方向界定在X方 向上的一非扫描方向,该X方向系大致垂直于该Y方 向。 29.如请求项2之微影投影装置,其中该第一遮蔽构 件包含一叶片,且该装置进一步包含一配置于该叶 片之两个相对末端处的夹持构件,以用于将该叶片 夹于该叶片支撑物上,以使得由该叶片支撑物于该 等相对末端处支撑该叶片。 30.如请求项2之微影投影装置,其中该等遮蔽构件 中之任一个均具有一抗反射涂层。 31.一种半导体元件制造方法,其包括以下步骤: 提供一至少部分地由一层辐射敏感材料所覆盖之 基板; 使用一照明系统来提供一辐射投影束; 提供一支撑结构用于在一位置处支撑一图案化构 件,该图案化构件用于根据一所要图案来图案化该 投影束; 选择性地遮掩该等图案化构件中之至少一个的部 分,以使其免受该投影束与该经图案化之射束的照 射,使用一第一遮蔽构件相对于该位置以一第一方 向选择性地遮掩该部分,并使用一第二遮蔽构件相 对于该位置以一不同之第二方向选择性地遮掩该 部分; 将经图案化之辐射束投影至该辐射敏感材料层之 一目标区域上; 其特征在于,将该第一遮蔽构件与该第二遮蔽构件 以一相对于彼此未机械耦接之配置安置于该投影 束之一焦平面附近。 32.一种用于遮掩一图案化构件之至少一部分以使 其免受一投影构件照射之遮蔽元件,该遮蔽元件包 括一配置成相对于该位置以一第一方向遮掩该部 分之第一遮蔽构件,及一配置成相对于该位置以一 不同之第二方向遮掩该位置之部分的第二遮蔽构 件,其中该遮蔽元件包括一包含CVD金刚石或钨铜合 金或碳化矽之成分。 图式简单说明: 图1描绘根据本发明之一实施例之一微影投影装置 ; 图2展示根据本发明之一实施例之一遮蔽元件; 图3a展示根据本发明之一实施例之遮蔽元件之三 维概述; 图3b展示图1中所示之微影装置之部分在YZ平面中 之横截面,其展示根据本发明之一实施例的遮蔽叶 片; 图4展示图1中所示之微影装置之部分在YZ平面中之 横截面,其展示根据本发明之一实施例的遮蔽叶片 之堆叠; 图5展示根据本发明之一实施例安装于一支撑部件 上之遮蔽元件的X叶片; 图6展示根据本发明之一实施例安装于一支撑部件 上的X叶片之细节; 图7展示根据本发明之一实施例用于Y叶片之支撑 部件之俯视图;且 图8展示根据本发明之一实施例整合于X与Y总成支 撑框架中之一Z操纵器的细节。 |
