发明名称 |
曝光装置以及曝光方法 |
摘要 |
一种曝光装置以及曝光方法,使靶材料等离子化,并产生脉冲光,以脉冲光进行曝光。本发明的特点是包括:发光机构,使间歇性供应的靶材料等离子化而产生脉冲光;标线片载物台,具备照射脉冲光的标线片;感应基板载物台,配置有照射于标线片经过图案化的脉冲光的感应基板;控制机构,在开始对感应基板上进行曝光前,依据感应基板载物台的驱动时序及脉冲光的发光时序,使曝光开始点或者曝光结束点与发光时序一致的方式,控制感应基板载物台。本发明即使在曝光用光源中,使用使靶材料等离子化而产生的脉冲光的情形时,也能获得良好的曝光量均一性。 |
申请公布号 |
CN101015038A |
申请公布日期 |
2007.08.08 |
申请号 |
CN200580028236.5 |
申请日期 |
2005.11.07 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
近藤洋行;宫地敬 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G21K5/02(2006.01);H05H1/24(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
左一平 |
主权项 |
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:一发光机构,其使间歇性供应的一靶材料等离子化而产生一脉冲光;一标线片载物台,其具备照射有所述脉冲光的一标线片;一感应基板载物台,其配置有照射有在所述标线片经过图案化的所述脉冲光的一感应基板;以及一控制机构,其在开始对所述感应基板上进行曝光前,以依据所述感应基板载物台的一驱动时序及所述脉冲光的一发光时序,而使曝光开始点或者曝光结束点与所述发光时序一致的方式,控制所述感应基板载物台。 |
地址 |
日本东京 |