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发明名称
基板结构及薄膜图案层之制造方法
摘要
本发明涉及一种基板结构,其包括:一基板及复数形成于该基板上之挡墙,该复数挡墙与基板之间形成复数收容空间,基板结构进一步包括一扩散控制层,该扩散控制层位于复数收容空间内之基板上,该扩散控制层能减小填充至该复数收容空间之墨水之扩散速度或扩散范围,而能改善墨水与挡墙间的接触角问题。本发明还涉及一种薄膜图案层之制造方法,其步骤如下:(1)提供一上述之基板结构;(2)藉由一喷墨装置将墨水填充于该复数收容空间中;(3)乾燥固化该收容空间中之墨水而形成薄膜图案层。
申请公布号
TW200727075
申请公布日期
2007.07.16
申请号
TW095101345
申请日期
2006.01.13
申请人
虹创科技股份有限公司
发明人
周景瑜;许艶惠;陈伟源
分类号
G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G03F7/00(2006.01)
代理机构
代理人
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区工业东四路24之1号4楼
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