| 发明名称 | 薄膜材料及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明披露了薄膜材料和制造该薄膜材料的方法，用该方法能够提高形成于基板上的膜的性质。超导线材1包括基板2、形成于基板上并包括一层或至少两层的中间薄膜层(中间层3)、和形成于中间薄膜层(中间层3)上的单晶薄膜层(超导层4)。在中间薄膜层(中间层3)的至少一层中与单晶薄膜层(超导层4)相对的上表面(被研磨面10)是研磨过的。 | ||
| 申请公布号 | CN1997779A | 申请公布日期 | 2007.07.11 |
| 申请号 | CN200580023975.5 | 申请日期 | 2005.06.14 |
| 申请人 | 住友电气工业株式会社;财团法人国际超电导产业技术研究中心 | 发明人 | 母仓修司;大松一也 |
| 分类号 | C30B29/22(2006.01);C23C14/08(2006.01);H01B12/06(2006.01);H01B13/00(2006.01) | 主分类号 | C30B29/22(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;张平元 |
| 主权项 | 1、薄膜材料(1)，包括：基板(2)；形成于所述基板(2)上并包括一层或至少两层的中间薄膜层(3)；和形成于所述中间薄膜层(3)上的单晶薄膜层(4)，其中在所述中间薄膜层(3)的至少一层中与所述单晶薄膜层(4)相对的上表面(10)是研磨过的。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||