| 发明名称 | 一种金属基带上制备氧化物阻隔层的热处理方法 | ||
| 摘要 | 一种金属基带上制备氧化物阻隔层的热处理方法，涉及一种利用金属有机物沉积在金属基带表面制备具有单一织构成份的氧化物阻隔层的方法。其特征在于热处理赤程是在快速流动的还原性气体的气氛下，进行热处理的。本发明的在前驱有机物热分解阶段利用大流速气体迅速将低含碳气体的浓度，加速前驱膜分解；随后的成相热处理阶段，减小气体流量，保证样品温度与热处理制度所确定的温度同步，获得单一织构成份的氧化物阻隔层。 | ||
| 申请公布号 | CN1986880A | 申请公布日期 | 2007.06.27 |
| 申请号 | CN200610172260.2 | 申请日期 | 2006.12.30 |
| 申请人 | 西北有色金属研究院 | 发明人 | 于泽铭;周廉;张平祥;李成山;卢亚峰 |
| 分类号 | C23C18/12(2006.01) | 主分类号 | C23C18/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国有色金属工业专利中心 | 代理人 | 李迎春 |
| 主权项 | 1.一种金属基带上制备氧化物阻隔层的热处理方法，包括在金属基带上涂敷有有机前驱膜在的金属基在还原性气氛下进行热理过程，其特征在于热处理赤程是在快速流动的还原性气体的气氛下，进行热处理的。 | ||
| 地址 | 710016陕西省西安市北关方新村西安市51号箱 | ||