发明名称 |
显影装置和显影方法 |
摘要 |
一种显影装置包括基底保持部,其以这样一种方式水平地保持基底使得抗蚀剂涂层置于上面;向该基底保持元件保持的基底上表面供给显影剂的显影喷嘴;其尺寸在二维的平面视场上等于或大于基底的液体流动抑制元件,该液体流动抑制元件具有包括多个开口以及相对显影剂具有亲水性的网孔,它通过网孔的开口输送从显影喷嘴供给的显影剂以在网孔和基底之间形成显影剂的液膜;以及可动地支撑该液体流动抑制元件的移动机构,其将网孔设置成面对基底上的抗蚀剂涂层并使网孔与显影剂的液膜表面接触或者将网孔浸没在液膜中。 |
申请公布号 |
CN1989593A |
申请公布日期 |
2007.06.27 |
申请号 |
CN200580024250.8 |
申请日期 |
2005.05.17 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
北村哲也 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F7/30(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
肖春京;杨松龄 |
主权项 |
1.一种显影基底上经过图案曝光的抗蚀剂涂层的显影装置,其特征在于包括:基底保持部,其大体上水平地保持基底使得抗蚀剂涂层置于上面;向该基底保持部保持的基底上表面供给显影剂的显影喷嘴;其尺寸在二维的平面视场上等于或大于基底尺寸的液体流动抑制元件,该液体流动抑制元件具有包括多个开口以及相对显影剂具有亲水性的网孔,它通过网孔的开口输送从显影喷嘴供给的显影剂,从而在网孔和基底之间形成液膜;以及可动地支撑该液体流动抑制元件的移动机构,其将网孔设置成面对基底上的抗蚀剂涂层,并使网孔与显影剂的液膜表面接触或者将网孔浸没在液膜中。 |
地址 |
日本东京都 |