| 发明名称 | 在有机电致发光元件制造中使用的掩模的清洗液以及清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以用1种清洗液去除附着在低分子型有机EL元件制造的真空蒸镀工序中掩模上的各种有机材料的清洗液以及清洗方法。本发明的所述清洗液含有1种或2种或以上的非质子性极性溶剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1320088C | 申请公布日期 | 2007.06.06 |
| 申请号 | CN200410098311.2 | 申请日期 | 2004.12.03 |
| 申请人 | 关东化学株式会社;三洋电机株式会社 | 发明人 | 石川典夫;木野村芳孝;泥谷秀树 |
| 分类号 | C11D7/50(2006.01);H05B33/12(2006.01) | 主分类号 | C11D7/50(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 陈建全 |
| 主权项 | 权利要求书1、一种在低分子型有机电致发光元件制造的真空蒸镀工序中使用的掩模的清洗液，其含有1种、2种或以上从N，N′-二甲基甲酰胺、乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚、1，4-二噁烷和环己烷中选择的非质子性极性溶剂。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||