使用处理靶做为度量靶以相对于半导体积体电路来定位雷射光束点的方法和系统

摘要

本发明揭示各种方法(600、700)以及系统(100)，用以相对于一半导体基板(130)来量测、决定、或是对齐一雷射光束点的位置，该半导体基板(130)之上或之内具有要藉由传递一处理雷射光束至一处理雷射光束点(135)来进行选择性处理的数个结构(410)。该等各种方法(600、700)以及系(100)会运用该些结构(410)本身来实施该量测、决定、或是对齐。