| 主权项 |
1.一种发光二极体之光源折射结构,该发光二极体 主要包含有晶片、导线架、跨接于晶片与导线架 上形成正负两极之金线、及封装上述构件之胶体, 而于发光二极体内之晶片所形成之平面至胶体顶 缘处形成光放射区,而晶片平面至胶体底部平面处 为光流动区,其中: 由胶体底部延伸一导射区,该导射区具有一令光线 由光放射区之晶片所呈平面处对应折射至导射区 形成全反射之反射曲面。 2.如申请专利范围第1项所述发光二极体之光源折 射结构,其中该反射曲面为自由曲面者。 3.如申请专利范围第1项所述发光二极体之光源折 射结构,其中该反射曲面为球面者。 4.如申请专利范围第1项所述发光二极体之光源折 射结构,其中该反射曲面由复数间隔平面所构成者 。 5.如申请专利范围第1项所述发光二极体之光源折 射结构,其中该反射曲面由多环带状面所构成者。 图式简单说明: 第一图:现有技术一之剖视示意图 第二图:现有技术二之剖视示意图 第三图:现有技术三之剖视示意图 第四图:现有技术四之剖视示意图 第五图:本创作实施状态一之剖视示意图 第六图:本创作实施状态二之剖视示意图 第七图:本创作曲面实施例图(一) 第八图:本创作曲面实施例图(二) 第九图:本创作曲面实施例图(三) |
