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发明名称
曝光方法及曝光装置
摘要
高精度定位基板和第1光罩和第2光罩。以CCD摄影机同时读取位于可挠性基板10和第1光罩11和第2光罩12之对应位置的3个定位标记22、25、26,根据来自该读取之画像之标记位置资讯,调整可挠性基板10和第1光罩11之间,及可挠性基板10和第2光罩之间的各相对性位置而执行定位。
申请公布号
TW200720855
申请公布日期
2007.06.01
申请号
TW095139206
申请日期
2006.10.24
申请人
三荣技研股份有限公司
发明人
三宅健;今西贤
分类号
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H05K3/00(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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