发明名称 |
连续热真空沉积装置和方法 |
摘要 |
本发明涉及一种涂覆方法,用于通过将固体或液体涂覆材料气化并且将气化的涂覆材料气相沉积到沉积装置中的基片上,而对在沉积通道中移动的被连续输送的基片进行热真空沉积。本发明的目的在于提供一种涂覆方法,用于对被连续输送的基片进行热真空沉积,其中提高了气化装置的可达性,同时能够相互独立地控制在沉积腔室和气化装置中进行的过程。该目的如此实现,利用蒸发器在位于沉积腔室外侧的至少一个气化装置中将涂覆材料气化,并且对蒸气在蒸发器和沉积通道之间的配送进行调节。 |
申请公布号 |
CN1969056A |
申请公布日期 |
2007.05.23 |
申请号 |
CN200580013496.5 |
申请日期 |
2005.04.16 |
申请人 |
冯·阿德纳设备有限公司 |
发明人 |
卢茨·戈特斯曼;乌尔夫·赛费特;伯恩特-迪特尔·温泽尔 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01);C23C14/24(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
刘莉婕;郑立 |
主权项 |
1.一种涂覆方法,用于通过将固体和/或液体涂覆材料汽化并且将汽化的涂覆材料汽相沉积到沉积装置中的基片上,而对在沉积通道中移动的连续输送的基片进行热真空沉积,其特征在于,利用每汽化装置至少一个的蒸发器(6)在位于沉积腔室(2)外侧的至少一个汽化装置(3)中将涂覆材料(10)汽化,并且对蒸汽在蒸发器(6)和沉积通道(13)之间的配送进行调节。 |
地址 |
德国德累斯顿 |