发明名称 周边曝光装置及其方法(二)
摘要 【课题】提供一种周边曝光装置及方法,可对应识别标记形成于周边区域等的位置,将污染基板表面的原因降至最小。【解决手段】周边曝光装置包括一紫外光照射单元(9)以及一照射区域调整遮板机构(10)。紫外光照射单元(9)在移动路径上,从照射口经由照射用透镜将包含紫外光的光照射至基板的周边区域,照射区域调整遮板机构(10)系根据基板的移动速度,控制成覆盖上述照射口(9m)至少一部分而遮蔽识别标记控制。
申请公布号 TW200719093 申请公布日期 2007.05.16
申请号 TW095137671 申请日期 2006.10.13
申请人 奥克制作所股份有限公司 发明人 持晴康;佐藤博明;池田泰人;森昌人
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/68(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本