| 发明名称 | 靶材料及其在溅射过程中的应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及利用溅射来制备用于日照控制和吸收层的保护层的靶材料。这种靶材料由掺杂钛的硅组成。利用该靶材料制备的保护层可被加热而不使其性能显著改变。因此它也适合于涂覆加热随后弯曲的玻璃。 | ||
| 申请公布号 | CN1961094A | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
| 申请号 | CN200480043213.7 | 申请日期 | 2004.06.02 |
| 申请人 | 应用材料有限公司 | 发明人 | 耶德·克莱德艾特;安东·兹梅尔蒂;迈克尔·盖斯勒 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C03C17/36(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 梁晓广;陆锦华 |
| 主权项 | 1.利用溅射来制备用于日照控制和吸收层的保护层的靶材料，其特征在于，所述靶材料包含硅和钛。 | ||
| 地址 | 德国阿尔策瑙 | ||