| 摘要 |
本发明系关于一种改良之化学机械研磨(CMP)之固定环。较佳之实施例包含由耐磨损塑胶材料制成之底座部份，及由硬物及更耐磨损的材料所制成之上部或骨架部份。较佳地，底座部份或骨架部份其中之一包覆成型于另一个。底座部份一般可由平坦的垫接触表面、外表面及内表面所限定。底座部份可更包含沟槽，自外表面延伸至内表面，以促进制程中进出基板的研磨浆流动。底座部份或骨架部份其中之一或两者可更包含复数个环形肋条，以在已包覆成型材料上产生额外的接合表面。固定环可更包含复数个具有螺纹嵌入孔的突起，使固定环能附接至化学机械研磨系统。 |
