| 发明名称 | 微波等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 在微波等离子体处理装置(10)中设置促进利用微波进行等离子体点火的等离子体点火促进部件。等离子体点火促进部件具有产生真空紫外线的重氢灯(30)，以及，使真空紫外线透过并将之导入等离子体激发用空间(26)内的透过窗(32)。透过窗(32)构成为凸透镜结构，通过聚焦真空紫外线来促进等离子体激发气体的电离。通过所述结构，可以容易且快速地进行等离子体点火。 | ||
| 申请公布号 | CN1311531C | 申请公布日期 | 2007.04.18 |
| 申请号 | CN02807489.0 | 申请日期 | 2002.03.28 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;大见忠弘 | 发明人 | 大见忠弘;平山昌树;须川成利;后藤哲也 |
| 分类号 | H01L21/31(2006.01);H01L21/205(2006.01);B01J19/08(2006.01);C23C16/511(2006.01);H01L21/265(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H05H1/46(2006.01) | 主分类号 | H01L21/31(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷;李其华 |
| 主权项 | 1.一种微波等离子体处理装置，利用微波产生等离子体来进行等离子体处理，包括：处理室；装载台，位于处理室的底部，用于装载被处理物；等离子体激发气体喷盘，位于处理室内的上部，向处理室内供应用于生成等离子体的等离子体激发气体；处理气体喷盘，具有可使等离子体通过的开口部分，位于所述等离子体激发气体喷盘和所述装载台之间，并朝着所述装载台喷射处理气体；和等离子体点火促进部件，设置于所述等离子体激发气体喷盘与处理气体喷盘之间的空间内，用于促进利用微波的等离子体点火。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||