| 摘要 |
本发明提供一种一薄膜电晶体阵列面板的制造方法，其包括：于一基板上形成一闸极线；于该闸极线上形成一闸极绝缘层、一半导体层及一欧姆接触；于该欧姆接触上形成一包括Mo之第一传导薄膜、一包括Al之第二传导薄膜及一包括Mo之第三传导薄膜；于该第三传导薄膜上形成一第一光阻图案；将该第一光阻图案用作一遮罩来蚀刻该第一、该第二及该第三传导薄膜、该欧姆接触及该半导体层；移除该第一光阻图案一预定厚度以形成一第二光阻图案；将该第二光阻图案用作一遮罩来蚀刻该第一、该第二及该第三传导薄膜以曝露该欧姆接触的一部分；及使用一含Cl气体及一含F气体来蚀刻该曝露的欧姆接触。 |
