含三聚异氰酸化合物与苯甲酸化合物之反应生成物的防反射膜形成用组成物

摘要

本发明提供一种可形成「高」防反射光效果、不与光阻引起互混，于下部不具较大拉下摆形状之光阻图型，能使用于采用ArF准分子雷射及F2准分子雷射等照射光之微影制程的防反射膜，及形成该防反射膜之防反射膜形成组成物。其系含有藉由具有两个或三个2,3-环氧丙基之三聚异氰酸化合物与苯甲酸化合物反应而得的反应生成物之防反射膜形成用组成物。