| 主权项 |
1.一种调整投影机之光机的方法,该光机包括一匀 光管(light pipe)及一成像元件,该方法包括: 从该匀光管之入口端视入,以视得该匀光管之出口 端及该成像元件之一第一相对位置;以及 依据该第一相对位置而调整该光机,使得从该匀光 管之入口端视入时,该匀光管之出口端与该成像元 件之间具有一第二相对位置; 其中所视得之该第二相对位置系使该成像元件实 质上位于该匀光管之出口端的中央。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该调整步 骤系调整该匀光管,使得从该匀光管之入口端视入 时,该匀光管之出口端与该成像元件之间具有该第 二相对位置。 3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该调整步 骤系调整该成像元件,使得从该匀光管之入口端视 入时,该匀光管之出口端与该成像元件之间具有该 第二相对位置。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该调整步 骤中,系调整该匀光管之出口端,使得从该匀光管 之入口端视入时,该匀光管之出口端与该成像元件 之间具有该第二相对位置。 5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该光机更 包括: 一发光元件,用以发出一光线至该匀光管,以使该 匀光管射出一第二光束; 一聚光透镜,配置于该匀光管之出口端之旁侧,以 缩聚该第二光束成为一第三光束;及 一反射镜,配置于该聚光透镜之旁侧,该反射镜用 以反射该第三光束成为一光源,该光源用以照明该 成像元件。 6.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该调整步 骤系调整该聚光透镜。 7.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该调整步 骤系调整该反射镜。 8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该成像 元件系数位微镜元件(Digital Micro-mirror Device,DMD)。 图式简单说明: 第1图绘示乃投影机之光机的示意图。 第2A图~第2D图绘示乃第一光束122所形成之照亮区 122a与成像元件112之相对位置的示意图。 第3图绘示乃依照本发明较佳实施例之调整投影机 之光机的方法之流程图。 第4图绘示乃匀光管106之出口端106b与成像元件112 之第二相对位置的示意图。 |
