发明名称 |
用以提高电浆反应器中之基材温度的方法与系统 |
摘要 |
本发明提供一种基材处理系统。一壳体界定一处理腔室。一电浆产生系统操作地耦合于该处理腔室。一基材支撑构件设置在该处理腔室内,且用以在基材处理期间固持一基材。一陶瓷插入件位于该基材支撑构件上方,使得该陶瓷插入件在基材处理期间设置在该基材支撑构件与该基材之间。一气体输送系统系用以导入气体至该处理腔室中。一控制器系控制该电浆产生系统与该气体输送系统。 |
申请公布号 |
TW200712252 |
申请公布日期 |
2007.04.01 |
申请号 |
TW095128189 |
申请日期 |
2006.08.01 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
李世健;路四清;邱艾琳;李永S LEE, YOUNG S.;石川哲也 |
分类号 |
C23C16/513(2006.01);C23C16/52(2006.01);C23C16/54(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/513(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
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地址 |
美国 |