| 主权项 |
1.一种光学滤镜的制造方法,包含下列步骤: (1)提供一基板; (2)在该基板上形成一金属层,以该金属层定义出一 滤镜区; (3)在该滤镜区内形成一滤镜;以及 (4)移除该金属层,如此即完成一光学滤镜。 2.如请求项1所述的方法,其中步骤(2)系以电铸之方 式形成该金属层。 3.如请求项1所述的方法,其中该金属层是以图形定 义该滤镜区,亦即未有该金属层覆盖的该基板即为 该滤镜区。 4.如请求项3所述的方法,其中在以该金属层定义该 滤镜区之前,系利用光刻技术使在该基板上预留作 为该滤镜区的部分以一光阻覆盖,而未有该光阻覆 盖之区域即作为形成该金属层的所在。 5.如请求项1所述的方法,其中重复步骤(2)至步骤(4) ,即可在该基板上形成复数个光学滤镜。 6.如请求项1所述的方法,其中步骤(2)是包含下列步 骤: (2-1)在该基板上依序形成一电铸起始层以及一光 阻; (2-2)在该光阻上定义出该滤镜区,并保留该滤镜区 的该光阻,而该滤镜区以外的光阻则被除去使该电 铸起始层暴露而形成一电铸区; (2-3)在该电铸区上电铸形成该金属层;以及 (2-4)除去该滤镜区上的该光阻与该电铸起始层。 7.如请求项6所述的方法,其中该电铸起始层系铬或 铜。 8.如请求项6所述的方法,其中该电铸起始层的形成 方式是选自物理气相沉积或化学气相沉积。 9.如请求项6所述的方法,其中该光阻是AZ4620型。 10.如请求项6所述的方法,其中该光阻是以旋转涂 布的方式形成于该电铸起始层之上。 11.如请求项6所述的方法,其中该滤镜区上的该光 阻系以丙酮加以去除。 12.如请求项6所述的方法,其中该滤镜区上的该电 铸起始层系以蚀刻液Cr7加以去除。 13.如请求项1所述的方法,其中步骤(4)是以抬离(lift -off)的方式将该金属层与该电铸起始层剥离,而抬 离所使用的溶液是硝酸与蚀刻液Cr7。 14.如请求项1所述的方法,其中该金属层系以镍所 制造。 15.如请求项1所述的方法,其中步骤(3)所述的该滤 镜是以氟化镁(MgF2)、二氧化矽(SiO2)、氧化铝(Al2O3) 、氧化铪(HfO2)、氧化钛(TiO2)、氧化铌(Nb2O5)、氧化 钽(Ta2O5)、与氧化锆(ZrO2)所制造。 16.如请求项1所述的方法,其中所完成的该光学滤 镜系贴设于一侦测器上。 17.如请求项1所述的方法,其中在该侦测器与该光 学滤镜间更具有一视窗玻璃。 18.一种光学滤镜的制造方法,包含下列步骤: (1)提供一基板; (2)在该基板上依序形成一电铸起始层以及一光阻 层; (3)提供一光罩,用以定义一电铸区与一滤镜区; (4)除去该电铸区上的光阻层,使该电铸起始层曝露 于外,而该滤镜区上则保留该光阻层; (5)在该电铸区内电铸一金属层; (6)移除该滤镜区上的该光阻层与该电铸起始层,使 该基板暴露; (7)在该滤镜区内的该基板上形成一滤镜层;以及 (8)移除该电铸区上的该金属层与该电铸起始层,如 此即完成一光学滤镜。 19.如请求项18所述的方法,其中更包含一步骤(9),重 复步骤(2)至步骤(8),如此即可形成各个具有不同波 长的复数个光学滤镜。 20.如请求项19所述的方法,其中该复数个光学滤镜 的波长系选自红色、绿色与蓝色。 21.如请求项18所述的方法,其中步骤(8)系以剥离( lift off)的方式除去该电铸区上的该金属层与该电 铸起始层。 22.一种用以制造光学薄膜的结构,包含: 一基板,以及 一金属结构,系形成于该基板上,该金属结构更具 有复数个镂空区,使该基板暴露于外,而光学薄膜 即形成于该复数个镂空区内。 23.如请求项22所述的结构,其中该光学薄膜系一滤 镜。 24.如请求项22所述的结构,其中该金属结构于该光 学薄膜形成完毕后,须被移除。 图式简单说明: 图1,为本发明所欲制造的光学滤镜阵列的侧剖面 图; 图2至图19,为本发明的制造步骤示意图; 图20,为本发明所制造之滤镜阵列的上视图; 图21,为本发明所制造的滤镜阵列应用于彩色侦测 器的示意图;以及 图22,为使用本发明的滤镜阵列并具有抗反射薄膜 的彩色侦测器。 |
