| 主权项 |
1.一种在具有空间光调变器之无掩罩微成影系统 中用于在物件上产生灰阶之方法,该方法包括: 以光束曝照该物件以产生图案;及 调变该物件的曝光时间以在该物件上产生灰阶等 级范围。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中,该调变步骤 包括改变雷射光源的脉冲宽度。 3.如申请专利范围第2项之方法,其中,该图案系由 第一脉冲宽度操作的雷射所产生,该方法又包括: 使该图案与第一脉冲宽度操作之雷射相重叠,以产 生重叠曝光,其中,第二脉冲宽度不同于第一脉冲 宽度, 以致于该重叠曝光在该物件上产生不同范围的灰 阶等级。 4.如申请专利范围第3项之方法,其中,重覆该重叠 步骤直至取得所需数目的灰阶等级为止。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中,该空间光调 变器具有多个像素,该方法在该曝光步骤之前进一 步包括: 在主动状态之间切换该衆多像素,或是将该衆多像 素从一主动状态切换至关闭状态,其中,像素的主 动状态相当于由处于特定灰阶等级之该像素传送 光至该物件,该关闭状态相当于该像素未传送光至 该物件。 6.如申请专利范围第5项之方法,其中,该调变步骤 包括: 将该空间光调变器的衆多像素之部份比该空间光 调变器中的其它像素更早切换至交替状态。 7.如申请专利范围第6项之方法,又包括补偿该图案 的污损。 8.一种在具有空间光调变器之无掩罩微成影系统 中用于在物件上产生灰阶之方法,该方法包括: 以光束曝照该物件以产生图案;及 调变该光束的功率以在该物件上产生灰阶等级范 围。 9.如申请专利范围第8项之方法,其中,该图案系由 具有第一功率之光束所产生,该方法又包括: 使该图案与具有第二功率之光束相重叠,以产生重 叠曝光, 以致于该重叠曝光在该物件上产生不同范围的灰 阶等级。 10.如申请专利范围第9项之方法,其中,重覆该重叠 步骤直至取得所需数目的灰阶等级为止。 11.如申请专利范围第10项之方法,其中,该重叠步骤 包括: 使光束通过具有特别用于该重叠曝光的固定强度 传输値之滤光器;及 将该光束传送至该物件。 12.如申请专利范围第9项之方法,其中,该重叠步骤 包括: 将该光束分成多于一光束; 使每一光束通过具有固定强度传输値之滤光器; 使用其自己的个别空间光调变器以传送每一光束; 及 在该物件上重叠来自每一个别的空间光调变器之 影像。 13.一种无掩罩微成影系统,包括: 照明光源; 物件;及 控制器, 其中,该控制器会调变来自该光源之光束曝照该物 件之持续时间以在该物件上产生灰阶等级范围。 14.如申请专利范围第13项之无掩罩微成影系统,其 中,该调变器会藉由在连续曝光之间改变雷射光源 的脉冲宽度以改变该持续时间。 15.如申请专利范围第13项之无掩罩微成影系统,又 在该照明光源与该物件之间包括: 空间光调变器, 其中,该空间光调变器具有衆多像素,及 其中,像素的主动状态相当于由处于特定灰阶等级 之该像素传送光至该物件,以及关闭状态相当于该 像素未传送光至该物件。 16.如申请专利范围第15项之无掩罩微成影系统,其 中,该调变器藉由使该空间光调变器中的至少一像 素比该空间光调变器中的其它像素更早切换到至 少一交替状态,以改变该持续时间。 17.一种无掩罩微成影系统,包括: 照明光源,输出光束; 分光器,将该光束分成多个光束; 多个滤光器,每一该滤光器均对应于该多个光束之 一并具有固定的强度传输値;及 多个空间光调变器,每一该空间光调变器均对应于 该多个光束之一, 其中,该多个光束中每一光束会通过对应的该滤光 器及照明该对应的空间光调变器阵列,以致于该多 个空间光调变所产生的图案会在该物件上重叠。 18.如申请专利范围第17项之系统,又包括: 控制系统,用于控制该多个空间光调变器中每一者 所产生的每一图案。 19.一种在具有设有多个像素的空间光调变器之无 掩罩微成影系统中用于在物件上产生灰阶之方法, 该方法包括: 以光束曝照该物件以产生图案;及 调变该物件的曝光时间以在该物件上产生灰阶等 级的第一范围;及 调变该光束的功率以在该物件上产生灰阶等级的 第二范围。 20.如申请专利范围第19项之方法,其中,调变该物件 的曝光时间包括下述组成的族群中之一: 在曝光与曝光之间改变该光束的脉冲宽度以产生 重叠曝光;及 将该空间光调变器的多个像素之部份比该空间光 调变器中的其它像素更早切换至交替状态。 21.如申请专利范围第19项之方法,其中,调变该光束 的功率包括下述组成的族群中之一; 在曝光与曝光之间改变该光束的功率以产生重叠 曝光; 改变该光束通过之滤光器的强度传输値以产生重 叠曝光;及 在将该光束分成多个光束之后,使每一光束通过其 自己之具有固定强度传输値的滤光器。 图式简单说明: 图1系显示根据本发明的实施例之具有反射式SLM之 无掩罩微成影系统。 图2系显示根据本发明的实施例之具有透射式SLM之 无掩罩微成影系统。 图3系显示根据本发明之实施例之SLM。 图4系显示图3中的SLM之更多细节。 图5系显示根据本发明的实施例之组合件。 图6系流程图,显示根据本发明之灰阶化方法的第 一实施例,其中,雷射脉冲的持续时间提供增加的 灰阶等级。 图7系流程图,显示根据本发明之灰阶化方法的第 二实施例,其中,改变像素的离散状态的持续时间 会提供增加的灰阶等级。 图8系流程图,显示根据本发明之灰阶化方法的第 三实施例,其中,改变雷射脉冲的功率会提供增加 的灰阶等级。 图9系流程图,显示根据本发明之灰阶化方法的第 四实施例,其中,改变来自照明光源的个别光束之 功率会提供增加的灰阶等级。 图10系时序图,显示改变像素的离散状态之持续时 间以提供增加的灰阶等级之实施例。 图11系方块图,代表投影光件110的一实施例。 图12系方块图,代表本发明可以使用之范例系统。 |
