遮罩毛胚之制造方法及曝光用遮罩之制造方法

摘要

本发明之目的在于抑制起因于遮罩毛胚附近与外周附近的敏感度差异之曝光用遮罩中遮罩图案之面内CD不均匀等，例如，使得可适合于半导体装置中之半间距65nm节点。由喷嘴向基板表面滴下光阻液时，以使光阻液滴至基板表面之位置相比其他位置可抑制光阻剂的高敏感度化之方式，在以下范围内调整光阻液滴下位置距基板旋转中心的距离、及基板的旋转数，滴下光阻液，并使该滴下之光阻液延展，于基板部附近形成光阻剂堆积，进而利用离心力使该光阻剂堆积扩散至基板表面之周边部，其后，使之乾燥而形成光阻膜。