发明名称 |
设计掩模的方法 |
摘要 |
本发明提供一设计掩模(mask)的方法。首先,包括至少一个条状图案的主要图形在掩模衬底上形成,而转移机构(shift feature)附加在条状图案的一端。在主要图形的线端与线端之间的最后临界尺寸(critical dimension)可借由调整转移机构的相移量(phase shift)或透光率(optical transmission),或两者同时调整以最佳化。因此可改善主要图形中条状图案尾端的回拉现象(pullback)。 |
申请公布号 |
CN1908814A |
申请公布日期 |
2007.02.07 |
申请号 |
CN200510089328.6 |
申请日期 |
2005.08.02 |
申请人 |
联华电子股份有限公司 |
发明人 |
谢铭峰;林思闽;尤春祺;刘建新 |
分类号 |
G03F1/16(2006.01);G03F1/08(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/16(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
魏晓刚;李晓舒 |
主权项 |
1.一种设计掩模的方法,其特征在于,该方法包括:提供一掩模,该掩模包括一掩模衬底以及形成在该掩模衬底上的一主要图形,其中该主要图形包括至少一条状图案,以及提供一转移机构至该主要图形中的该条状图案的一端,使得该条状图案的该端的临界尺寸小于0.255微米,其中该掩模衬底与该转移机构之间有范围在60度至100度的一光相位差,转移机构的一透光度的范围在60%至100%。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区 |