发明名称 高纯度矽之制造方法
摘要 本发明提供一种高纯度矽之制造方法。该高纯度矽之制造方法系以铝还原下式(1)所示之卤化矽而制得矽之方法,用作还原剂的铝的纯度为99.9重量%以上。SiHnX4–n:(1)(式中,n为0至3之整数,X为选自F、Cl、Br、I之1种或2种以上之卤原子,该铝的纯度为由100重量%扣除该铝所含的铁、铜、镓、钛、镍、钠、镁与锌的合计重量%的余额。)
申请公布号 TW200704587 申请公布日期 2007.02.01
申请号 TW095123105 申请日期 2006.06.27
申请人 住友化学股份有限公司 发明人 三枝邦夫;山林稔治
分类号 C01B33/02(2006.01);C01B33/037(2006.01);H01L31/0248(2006.01) 主分类号 C01B33/02(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本