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发明名称
高纯度矽之制造方法
摘要
本发明提供一种高纯度矽之制造方法。该高纯度矽之制造方法系以铝还原下式(1)所示之卤化矽而制得矽之方法,用作还原剂的铝的纯度为99.9重量%以上。SiHnX4–n:(1)(式中,n为0至3之整数,X为选自F、Cl、Br、I之1种或2种以上之卤原子,该铝的纯度为由100重量%扣除该铝所含的铁、铜、镓、钛、镍、钠、镁与锌的合计重量%的余额。)
申请公布号
TW200704587
申请公布日期
2007.02.01
申请号
TW095123105
申请日期
2006.06.27
申请人
住友化学股份有限公司
发明人
三枝邦夫;山林稔治
分类号
C01B33/02(2006.01);C01B33/037(2006.01);H01L31/0248(2006.01)
主分类号
C01B33/02(2006.01)
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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