发明名称 |
氮化钛基低辐射自洁净镀膜玻璃及制备 |
摘要 |
一种氮化钛基低辐射自洁净镀膜玻璃,采用磁控溅射法生产,其膜层结构从基片玻璃至外层为:玻璃、过渡层、电介质层、TiN<SUB>x</SUB>、金属层、二氧化钛层。TiN<SUB>x</SUB>膜层具有反射红外线的能力,降低玻璃的辐射率,达到隔热节能的作用;二氧化钛膜层使玻璃具有自洁净性能,同时与电介质层匹配,减少该镀膜玻璃的可见光反射率。通过适当的热处理使微量的TiN<SUB>x</SUB>分解、造成微量的N扩散到二氧化钛膜面,使该镀膜玻璃有低辐射率、高的光催化降解有机物的效率、好的亲水性。利用TiN<SUB>x</SUB>代替常用的银层,降低了成本,提高了理化稳定性,本镀膜玻璃可以与空气直接接触使用。通过改变TiN<SUB>x</SUB>中x的值以及电介质层和二氧化钛的厚度,可以使该镀膜玻璃的颜色从蓝色到橙黄色变化。 |
申请公布号 |
CN1296304C |
申请公布日期 |
2007.01.24 |
申请号 |
CN200410012951.7 |
申请日期 |
2004.03.31 |
申请人 |
武汉理工大学 |
发明人 |
赵青南;赵修建;李春领 |
分类号 |
C03C17/36(2006.01);C23C14/35(2006.01);C23C14/06(2006.01) |
主分类号 |
C03C17/36(2006.01) |
代理机构 |
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 |
代理人 |
张安国 |
主权项 |
1、一种低辐射自洁净镀膜玻璃,其特征在于:该镀膜玻璃膜层结构形式为自基片玻璃依次向外为:a:玻璃、过渡层、电介质层、TiNx、金属层、二氧化钛层,或者b:玻璃、电介质层、TiNx、二氧化钛层,或者c:玻璃、电介质层、TiNx、金属层、二氧化钛层,或者d:玻璃、过渡层、电介质层、TiNx、二氧化钛层,所述的过渡层材料为SiO2,所述金属层为钛或不锈钢材料,电介质层主要材料为TiO2、SnO2、ZnO、Nb2O5、ZrO2或TiOaNc,其中0.8<x<1.3且x≠1.0,1<a<2,0<c<0.5。 |
地址 |
430070湖北省武汉市武昌区珞狮路122号 |