发明名称 光罩护膜框体
摘要 本发明为有关一种光罩护膜框体,尤指可防止光罩图形面上生成结晶物之护膜框体,该护膜框体系为刚性材质所制成,且该材料内含银金属,而使银金属可吸收、消除护膜框体的材料中所含之硫化物,或是将护膜框体表面使用表面处理技术镀上银金属,俾将护膜框体置于光罩上,再储存于储存容器之容置空间内时,可消除、吸收光罩或容置空间内之硫化物,而让光罩能保存在无害的环境内,以阻绝光罩表面之结晶物质发生,并可提高制程之良率,增加光罩之使用寿命。
申请公布号 TWI270504 申请公布日期 2007.01.11
申请号 TW093139030 申请日期 2004.12.15
申请人 家登精密工业股份有限公司 发明人 邱铭乾;黎念成
分类号 B65B1/04(2006.01);G03F1/14(2006.01) 主分类号 B65B1/04(2006.01)
代理机构 代理人 江明志 台北市大安区忠孝东路4段148号2楼之4;张朝坤 台北市大安区忠孝东路4段148号2楼之4
主权项 1.一种光罩护膜框体,尤指可防止光罩于微影制程 时,使用深紫外线光源曝照后,光罩表面会产生结 晶之光罩护膜框体;其改良在于: 该光罩护膜用框体由具有银金属之材料所制成,使 其具有吸收硫化物之效用者。 2.如申请专利范围第1项所述之光罩护膜框体,其中 该框体可为含银金属之合金材料所制成。 3.如申请专利范围第1项所述之光罩护膜框体,其中 该框体可为含银金属之铝合金材料所制成。 4.如申请专利范围第1项所述之光罩护膜框体,其中 该框体可为含银金属之陶瓷材料所制成。 5.如申请专利范围第1项所述之光罩护膜框体,其中 该框体可为含银金属之不锈钢材料所制成。 6.如申请专利范围第1项所述之光罩护膜框体,其中 该框体之表面为可涂布黑色塑胶聚合物。 7.一种光罩护膜框体,尤指可防止光罩于微影制程 时,使用深紫外线光源曝照后,光罩表面会产生结 晶之光罩护膜用框体;其改良在于: 该光罩护膜框体是由表面镀上银金属之材料所组 成,使其具有吸收硫元素之效用者。 8.如申请专利范围第7项所述之光罩护膜框体,其中 该框体可为铝合金材料表面电镀银金属所制成。 9.如申请专利范围第7项所述之光罩护膜框体,其中 该框体可为陶瓷材料表面溅镀银金属所制成。 10.如申请专利范围第7项所述之光罩护膜框体,其 中该框体可为不锈钢材料表面电镀银金属所制成 。 11.如申请专利范围第7项所述之光罩护膜框体,其 中该框体镀上银金属之表面上再涂布黑色之塑胶 聚合物。 12.如申请专利范围第11项所述之光罩护膜框体,其 中该塑胶聚合物可为铁氟龙材料。 13.如申请专利范围第11项所述之光罩护膜框体,其 中该塑胶聚合物可为PEEK材料。 14.如申请专利范围第11项所述之光罩护膜框体,其 中该塑胶聚合物可为PFA材料。 15.一种光罩护膜框体,尤指可防止光罩于微影制程 时,使用深紫外线光源曝照后,光罩表面会产生结 晶之光罩护膜用框体;其改良在于: 该光罩护膜框体系由表面涂布塑胶聚合物所制成, 且该塑胶聚合物之无机物总含量低于5ppm以下。 16.如申请专利范围第15项所述之光罩护膜框体,其 中该塑胶聚合物可为铁氟龙材料。 17.如申请专利范围第15项所述之光罩护膜框体,其 中该塑胶聚合物可为PEEK材料。 18.如申请专利范围第15项所述之光罩护膜框体,其 中该塑胶聚合物可为PFA材料。 图式简单说明: 第一图 系为193nm深紫外线曝光示意图(一)。 第二图 系为193nm深紫外线曝光示意图(二)。 第三图 光罩结晶生成物示意图。 第四图 系为习用光罩护膜之作用示意图。 第五图 本发明光罩护膜之立体外观图。 第六图 系为现有光罩护膜缺失示意图。 第六A图 系为第六图A部份剖面放大图。 第七图 系为本发明较佳实施例之部面示意图。 第七A图 系为第七图A部份剖面放大图。
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