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发明名称 Method for forming polycrystalline silicon film of poly-Si TFT
摘要
申请公布号 KR100663298(B1) 申请公布日期 2007.01.02
申请号 KR20030098756 申请日期 2003.12.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L29/786;B05D3/00;C30B13/24;C30B29/06;G02F1/13;H01L21/268;H01L21/324;H01L21/336 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
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