发明名称 发光装置、发光装置之制造方法及氮化物半导体基板
摘要 本发明揭示一种发光装置,其包括:一GaN基板1;一n型AlxGa1–xN层3,其位于该GaN基板1之一第一主表面侧上;一p型AlxGa1–xN层5,其位置比该n型AlxGa1–xN层3离该GaN基板1更远;以及一多量子井(MQW)4,其位于该n型AlxGa1–xN层3与该p型AlxGa1–xN层5之间。在此发光装置中,该p型AlxGa1–xN层5之侧系向下安装,而光系从第二主表面1a发出,该第二主表面1a系与该GaN基板1之第一主表面相对的主表面。在该GaN基板1之第二主表面1a上形成半球形突出物82。
申请公布号 TW200642119 申请公布日期 2006.12.01
申请号 TW094141791 申请日期 2005.11.28
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 永井阳一;片山浩二;北林弘之
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本