发明名称 |
化学气相沉积反应器 |
摘要 |
本发明有关一种化学气相沉积反应器,是由一反应管、一基板、一第一气体输入管、一第二气体输入管以及一固态粒子源所构成,借由该第一气体输入管及该第二气体输入管所分别提供的主反应气体彼此混合后,再根据其处于适当温度之下的氢化物或金属有机气相沉积反应,于该基板上形成包含该固态粒子的薄膜;该化学气相沉积反应器可在无须使用光罩层的情形下制作出沉积变化横越成长方向的薄膜。 |
申请公布号 |
CN1854336A |
申请公布日期 |
2006.11.01 |
申请号 |
CN200510066844.7 |
申请日期 |
2005.04.20 |
申请人 |
华宇电脑股份有限公司 |
发明人 |
李森田;优瑞·吉欧吉维奇·史瑞特;优瑞·图马索维奇·瑞朋;罗斯南·伊凡诺维奇·葛布诺夫 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
任永武 |
主权项 |
1.一种化学气相沉积反应器,包括:一反应管;一基板,设于该反应管内;一第一气体输入管,与该反应管相连接,用以提供一第一气体;一第二气体输入管,与该反应管相连接,用以提供一第二气体;以及一固态粒子供应装置,与该反应管相连接,用以供应一固态粒子;其中,该第一气体及该第二气体彼此混合后根据一化学反应于该基板上形成包含该固态粒子的薄膜。 |
地址 |
台湾省台北市八德路四段758号 |