光掩模

摘要

本发明提供了一种光掩模，设计光掩模结构以提供用于印刷亚波长特征的增大的光刻工艺窗口。在一方面中，光掩模包括掩模基板和掩模图案，掩模基板对给定波长的曝光光透明，掩模图案形成于所述基板的表面上。掩模图案包括由第一和第二临界边缘界定的可印刷元件，其中可印刷元件包括形成于所述第一和第二临界边缘之间的内部非印刷特征。内部非印刷特征适于在光刻工艺期间针对给定波长的曝光光提高在可印刷元件的第一和第二临界边缘处的图像对比度。非印刷元件包括空间特征和沟槽特征，空间特征暴露所述掩模基板的与所述第一和第二临界边缘之间的所述可印刷元件对准的区域，沟槽特征形成于掩模基板中且与空间特征对准。

主权项

1.一种光掩模，包括：掩模基板，对给定波长的曝光光透明；形成于所述基板的表面上的掩模图案，所述掩模图案包括将被转印到半导体衬底的图像的第一图案，其中所述第一图案包括可印刷特征，所述可印刷特征形成为具有适于调制所述可印刷特征的曝光光的强度和相位的非印刷特征。