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发明名称 Method of forming isolating layer for semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100638986(B1) 申请公布日期 2006.10.25
申请号 KR20040087867 申请日期 2004.11.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/76;H01L21/762 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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