| 发明名称 | 曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供的曝光装置，能抑制基板台(4)上的配管系统引入部的紊乱，抑制从配管的发尘，以及抑制配管部件表面带静电。本发明的曝光装置中，通过投影光学系统(照明系统单元)(1)，把画在原版面上的图形投影到基板上，用台装置(4)使原版和基板双方、或只使基板相对于该投影光学系统移动，把原版的图形反复曝光到基板上。与台装置的可动部连接着的若干个内外径不同的配管，其外周部的一部分相互接合着，形成为一体化的配管列(20)或(21)。 | ||
| 申请公布号 | CN1278189C | 申请公布日期 | 2006.10.04 |
| 申请号 | CN200410063325.0 | 申请日期 | 2004.07.08 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 宫岛义一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 何腾云 |
| 主权项 | 1.曝光装置，其特征在于，备有投影机构、台装置和曝光机构，上述投影机构，投影画在原版面上的图形；上述台装置，使原版和基板中的至少基板，相对于投影机构移动；上述曝光机构，将上述原版的图形反复曝光到上述基板上；与上述台装置的可动部连接着的若干配管，其各自外周部的一部分相互接合着，成为一体化的配管列。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||