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发明名称
在制程中测量低介电常数的薄膜性质
摘要
一种决定制造基板上低介电常数薄膜的介电系数的方法与系统。此方法包含用椭圆仪测量介电常数的电子组成,用红外光谱仪测量介电常数的离子组成,用微波光谱仪测量整体介电常数,以及推导出介电常数的偶极组成。此测量方法为非接触式,并且装置在测量后还可以继续后续的制程。
申请公布号
TW200634971
申请公布日期
2006.10.01
申请号
TW095108634
申请日期
2006.03.14
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
蔡嘉祥;徐鹏富;彭宝庆;徐祖望;谢志宏;苏怡年;陶宏远
分类号
H01L21/66
主分类号
H01L21/66
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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