| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包含:- 一用于提供一辐射投影光束之辐射系统;- 一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件用以根据一所要之图案将该投影光束图案化;- 一用于固持一基板之基板台;- 一用于将该已图案化之光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统;及- 一供液系统,其用于以一液体来至少部分地填充该投影系统之该最终元件与该基板之间的一空间以形成一液体储集层,其特征在于进一步包含一与该液体储集层相通之溢流结构,可承接一溢流以移除位于一给定水平面上之液体。2.如请求项1之微影投影装置,其进一步包含一用以向该空间供应液体之入口,其中该溢流被配置于该入口上方。3.如请求项1或2之微影投影装置,其中该液体受到一隙壁之约束,该溢流之一进口被定位于该障壁之该相对侧面上。4.如请求项3之微影投影装置,其中该溢流被配置成可在当该液体流动超过该障壁之该顶端时,该液体仅流进该溢流。5.如请求项1或2之微影投影装置,其中该障壁形成该供液系统之一部分。6.如请求项1或2之微影投影装置,其中该障壁形成一具有一区域之隆脊,与该投影系统之该最终元件的该区域相比,该隆脊之该区域并非无意义。7.如请求项1或2之微影投影装置,其中以一气密部件密封该液体上方之该空间。8.如请求项1或2之微影投影装置,其中该溢流将该流体上方之该压力保持在一恒定水平。9.如请求项1或2之微影投影装置,其进一步包含一密封部件,该密封部件沿着该投影系统之该最终元件与该基板台之间的该空间之该边界的至少一部分延伸,该密封部件与该投影系统形成一毛细管通路,对该溢流加以配置以移除该毛细管通路之至少一部分的该末端处的液体。10.如请求项1或2之微影投影装置,其进一步包含:一密封部件,其沿着该投影系统之该最终元件与该基板台之间的该空间之该边界的至少一部分延伸;及一用于向该空间供应液体之入口,该入口与该密封部件之该内圆周相邻并导引朝向该基板之该目标部分。11.一种微影投影装置,其包含:- 一用于提供一辐射投影光束之辐射系统;- 一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件用来根据一所要之图案将该投影光束图案化;- 一用于固持一基板之基板台;- 一用于将该已图案化之光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统;及- 一供液系统,其用于以一液体来至少部分填充该投影系统之该最终元件与该基板之间的一空间,其特征在于该液体受到一具有一隆脊之障壁的约束,该隆脊具有一区域,不小于该投影系统之该最终元件的一底部区域。12.如请求项11之微影投影装置,其中该障壁系该供液系统之一部分。13.如请求项11或请求项12之微影投影装置,其进一步包含:一密封部件,该密封部件沿着该投影系统之该最终元件与该基板台之间的该空间之该边界的至少一部分延伸;及一用于自该空间移除液体之出口,该密封部件与该投影系统形成一毛细管通路,对该出口加以配置以移除该毛细管通路之至少一部分的该末端处的液体。14.如请求项11或12之微影投影装置,其进一步包含:一密封部件,该密封部件沿着该投影系统之该最终元件与该基板台之间的该空间之该边界的至少一部分延伸;及一用于向该空间提供液体之入口,该入口与该密封部件之该内圆周相邻并导引朝向该基板之该目标部分。15.一种微影投影装置,其包含:- 一用于固持一基板之基板台;- 一用于提供被导引朝向该基板之一目标部分的一辐射投影光束之辐射系统;- 一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件用来根据一所要之图案将该投影光束图案化;- 一用于将该已图案化之光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统;及- 一供液系统,其用以以一液体来至少部分填充该投影系统之该最终元件与该基板之间的一空间,该供液系统包含:- 一用以向该空间供应液体之入口;及- 一密封部件,该密封部件沿着该投影系统之该最终元件与该基板台之间的该空间之该边界的至少一部分延伸,其特征在于该入口与该密封部件之该内圆周相邻并导引朝向该基板之该目标部分。16.如请求项15之微影投影装置,其中对该供液系统加以配置使得一通路形成于该投影系统之一元件与该密封部件之间以使液体朝向一出口流动。17.如请求项16之微影投影装置,其中该出口位于该通路之该末端处。18.如请求项15、16或17之微影投影装置,其进一步包含一腔室,藉由该腔室向该入口供应该液体,该腔室具有一比该入口之该横截面区域更大之横截面区域。19.如请求项15、16或17之微影投影装置,其进一步包含一用以自该空间移除液体之出口,该密封部件与该投影系统形成一毛细管通路,对该出口加以配置以移除该毛细管通路之至少一部分的该末端处的液体。20.如请求项15、16或17之微影投影装置,其进一步包含一溢流。21.一种微影投影装置,其包含:- 一用于固持一基板之基板台;- 一用于提供被导引朝向该基板之一目标部分的一辐射投影光束之辐射系统;- 一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件用来根据一所要之图案将该投影光束图案化;- 一用于将该已图案化之光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统;及- 一供液系统,其用以以一液体来至少部分填充该投影系统之该最终元件与该基板之间的一空间,该供液系统包含:- 一密封部件,其沿着该投影系统之该最终元件与该基板台之间的该空间之该边界的至少一部分延伸,- 一用以自该空间移除液体之出口,其特征在于该密封部件与该投影系统形成一毛细管通路,对该出口加以配置以移除该毛细管通路之至少一部分之该末端处的液体。22.如请求项21之微影投影装置,其进一步包含一用以向该空间供应液体之入口,其中该出口之该流动速率大于该入口之该流动速率。23.如请求项21或请求项22之微影投影装置,其进一步包含一用以向该空间供应液体之入口,该入口与该密封部件之该内圆周相邻并导引朝向该基板之该目标部分。24.如请求项21或22之微影投影装置,其进一步包含一用以向该空间供应液体之入口,该入口与该密封部件之该内圆周相邻并导引朝向该基板之该目标部分。25.如请求项21或22之微影投影装置,其进一步包含一溢流。26.一种微影投影装置,其包含:- 一用于提供一辐射投影光束之辐射系统;- 一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件用来根据一所要之图案将该投影光束图案化;- 一用于固持一基板之基板台;- 一用于将该已图案化之光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统;及- 一供液系统,其用以以一液体来至少部分填充该投影系统之该最终元件与该基板之间的一空间以形成一液体储集层,该液体储集层覆盖一比该基板更小之区域,该供液系统包含一用以向该空间供应液体之入口,其特征在于进一步包含用于将该入口连接至一高真空源之构件。27.如请求项26之微影投影装置,其中当连接至该高真空源时该入口作为一出口来操作。28.如请求项26或请求项27之微影投影装置,其中用于将该入口连接至一高真空源之该构件在一发生系统故障时便自动操作。图式简单说明:图1描绘了一根据本发明之一实施例的微影装置;图2及3描绘了用于先前技术之微影投影装置中的一供液系统;图4为根据本发明之一实施例的微影投影装置之细节;图5为根据本发明之另一实施例的微影投影装置的细节,其展示了一溢流;图6为根据本发明之一实施例的替代微影投影装置的细节;图7为根据本发明之一实施例的替代微影投影装置的细节;图8为根据本发明之一实施例的替代微影投影装置的细节;图9为本发明之一实施例的细节;及图10描绘了根据另一先前技术之微影投影装置的供液系统。 |
