| 发明名称 |
Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10120660(B8) |
申请公布日期 |
2006.09.28 |
| 申请号 |
DE20011020660 |
申请日期 |
2001.04.27 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SEBALD, MICHAEL;RICHTER, ERNST |
| 分类号 |
G03F7/26;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/38 |
主分类号 |
G03F7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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