| 发明名称 | 缺陷像素补偿方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种在覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法。提供了一个用于发射电磁辐射的源。所述辐射照射拥有多个调制元素(像素)的所述SLM。在一个书写工序中，把所述调制器的一个图像投射在所述工件上。在至少另一个书写工序中，对缺陷像素进行补偿。本发明还涉及一种用于执行所述方法的装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1277154C | 申请公布日期 | 2006.09.27 |
| 申请号 | CN02823704.8 | 申请日期 | 2002.11.26 |
| 申请人 | 麦克罗尼克激光系统公司 | 发明人 | 托布乔尔恩·桑兹特罗姆 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄小临;王志森 |
| 主权项 | 1.一种缺陷像素补偿方法，其在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建至少一个空间光调制器(SLM)的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响，包括下列动作：-提供一个用于发射电磁辐射的源，-通过所述辐射照射至少一个拥有多个调制元素(像素)的所述空间光调制器(SLM)，-在一个书写工序中把所述调制器上的一个图像投射在所述工件上，-在至少另一个书写工序中对缺陷像素进行补偿。 | ||
| 地址 | 瑞典泰比 | ||