| 发明名称 | 光学薄膜和光学补偿薄膜及制法、偏光板和液晶显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于，提供由于长期使用所导致的光程差变化少的光学薄膜、通过将该光学薄膜作为支持体使用而使光程差均匀性优良，随环境变化的光程差变化少的光学补偿薄膜，进而提供能够使得由于LED背光带来的发热和随环境变化的目视性的变化显著降低、色再现性优良的偏光板和液晶显示装置。光学薄膜的制备方法是通过将含有纤维素树脂和增塑剂的组合物熔融流延来制膜的光学薄膜的制备方法，其特征在于，在该方法中，上述纤维素树脂中的残留硫酸量在0.1～5 0ppm的范围，上述组合物含有通过烯性不饱和单体聚合而得到的重均分子量在500以上至30000以下的聚合物或者重均分子量在500以上至30000以下的丙烯酸系聚合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1834705A | 申请公布日期 | 2006.09.20 |
| 申请号 | CN200610055064.7 | 申请日期 | 2006.03.07 |
| 申请人 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 发明人 | 村上隆;清水邦夫 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01);C08J5/18(2006.01);G02F1/1335(2006.01) | 主分类号 | G02B5/30(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1.光学薄膜的制备方法，其特征在于，该方法是通过将含有纤维素树脂和增塑剂的组合物熔融流延来制膜的光学薄膜的制备方法，其中，上述纤维素树脂中的残留硫酸量在0.1～50ppm的范围内，上述组合物含有通过烯性不饱和单体聚合而得到的重均分子量在500以上至30000以下的聚合物或者重均分子量在500以上至30000以下的丙烯酸系聚合物。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||