发明名称 使用辐照(IRRADIATION)之装置图案化
摘要 在一实施例中,本发明提供一种用于在一有机电子装置之层中产生图案之方法,该方法包括选择性辐照该层之一部分;及提供藉由该方法制备之装置及子组件。
申请公布号 TW200632585 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094147297 申请日期 2005.12.29
申请人 杜邦股份有限公司 发明人 虚瓦 普拉卡;纽君特 特隆
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国