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发明名称
使用辐照(IRRADIATION)之装置图案化
摘要
在一实施例中,本发明提供一种用于在一有机电子装置之层中产生图案之方法,该方法包括选择性辐照该层之一部分;及提供藉由该方法制备之装置及子组件。
申请公布号
TW200632585
申请公布日期
2006.09.16
申请号
TW094147297
申请日期
2005.12.29
申请人
杜邦股份有限公司
发明人
虚瓦 普拉卡;纽君特 特隆
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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