发明名称 真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机
摘要 一种真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机。该设备利用金属蒸汽真空弧离子源提供的载能离子束实现工件的清洗和通过离子注入工件表面改性提高基体与膜层或过渡层结合力;并采用视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积技术,得到高光洁度、高薄膜密度、良好的薄膜与基体结合力等高质量镀膜。根据需要,真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机可以安装多个金属蒸汽真空弧离子源和多个视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源;可以实现离子束清洗,单独离子注入,混合离子注入,单质镀膜,多层镀膜,混合镀膜以及离子注入与镀膜同时进行等功能。
申请公布号 CN2811323Y 申请公布日期 2006.08.30
申请号 CN200420084484.4 申请日期 2004.07.30
申请人 北京师范大学 发明人 吴先映;李强;彭建华;刘安东;张荟星;张孝吉;张胜基
分类号 C23C14/48(2006.01);C23C14/32(2006.01) 主分类号 C23C14/48(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机,其特征在于该设备在一个真空靶室上安装至少一个用于离子束清洗、注入的金属蒸汽真空弧离子源和至少一个用于镀膜的视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源。
地址 100875北京市新街口外大街19号