发明名称 | 光阻层的表面处理方法及图案化光阻层的形成方法 | ||
摘要 | 一种光阻层的表面处理方法,其系在一晶圆上形成一图案化之光阻层后,使用至少含溴化氢或碘化氢之反应气体对光阻层进行一表面处理步骤,以于光阻层表面形成一硬化层。其中此一表面处理步骤系与蚀刻制程于同位进行。 | ||
申请公布号 | TW200629369 | 申请公布日期 | 2006.08.16 |
申请号 | TW094103932 | 申请日期 | 2005.02.05 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄国书 |
分类号 | H01L21/027 | 主分类号 | H01L21/027 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |